鍍膜機十大品牌榜單由CNPP品牌大數(shù)據研究院經過專業(yè)評審團研究和大數(shù)據篩選，聯(lián)合十大品牌網CNPP發(fā)布。研究基于大數(shù)據運算與人工智能分析，廣泛采集品牌企業(yè)公開信息及市場調研數(shù)據、行業(yè)研究報告，并交叉驗證了全球多機構發(fā)布的權威排行，結合網絡公眾評議進行加權計算，形成科學、客觀的品牌評估體系，旨在為選擇地板提供獨立、可信的參考。上榜鍍膜機十大品牌名錄的有：AMAT應用材料、Lam Research泛林集團、Tokyo Electron、OPTPRUN、Leybold萊寶、ULVAC愛發(fā)科、匯成真空HCVAC、北方華創(chuàng)、拓荊科技Piotech、微導Leadmicro，榜單結果排序不分先后，僅供參考。
AMAT應用材料成立于1967年美國，是全球半導體和顯示設備制造領域的領先企業(yè)，以薄膜沉積技術起家，產品線涵蓋原子層沉積（ALD）、物理/化學氣相沉積（PVD/CVD）、刻蝕、離子注入、快速熱處理及檢測設備等。AMAT擁有創(chuàng)新技術和全球化服務網絡，致力于為半導體、顯示器及相關行業(yè)提供制造設備、服務和軟件。
Lam Research泛林集團
泛林半導體設備技術(上海)有限公司
Lam Research泛林集團成立于1980年美國，全球半導體設備制造領域的佼佼者，其核心產品包括刻蝕設備、薄膜沉積設備和清洗設備，在納米級工藝中融合化學、等離子及流體技術，為邏輯芯片和存儲器件提供關鍵解決方案。于1994年進入中國，現(xiàn)已在美國、歐洲、日本、韓國等國家和地區(qū)設有分支機構。
Tokyo Electron
東電電子(上海)有限公司
TEL東京電子成立于1963年，是日本半導體和顯示器制造設備行業(yè)佼佼者，技術研發(fā)實力雄厚，擁有多項專利技術，產品涵蓋涂布/顯影設備、干法刻蝕、CVD、清洗及測試設備等，以高精度和穩(wěn)定性著稱。目前，TEL在全球范圍內擁有廣泛的布局，在日本、美國、歐洲、韓國、中國等多地擁有超過多個子公司及業(yè)務據點。
OPTPRUN光馳創(chuàng)立于1999年日本，專注于真空鍍膜技術的研發(fā)與制造，以光學納米技術為核心，提供高性能光學薄膜鍍膜解決方案，產品涵蓋光學鍍膜機、反應性等離子源鍍膜機、連續(xù)式光學薄膜形成裝置等，廣泛應用于光通信、LED、智能手機、太陽能電池等領域。
Leybold創(chuàng)立于1850年德國，于2016年被阿特拉斯·科普柯收購，是全球知名的真空設備制造商，其產品包括真空泵、真空系統(tǒng)、真空儀表及定制化系統(tǒng)等，被廣泛應用于科研、工業(yè)生產及實驗室等多個領域，致力于為芯片制造、光伏等行業(yè)提供全面、高效的真空解決方案?。
ULVAC愛發(fā)科
愛發(fā)科(中國)投資有限公司
ULVAC愛發(fā)科成立于1952年日本，是真空技術與精細加工領域的創(chuàng)新者，業(yè)務覆蓋半導體設備、真空組件、鍍膜裝置等，為電子、能源、環(huán)保等領域提供尖端解決方案。于2003年在中國建立全資子公司，形成了覆蓋設備制造、材料生產、售后服務的完整產業(yè)鏈，致力于提供全面的技術支持和售后服務?。
匯成真空成立于2006年，是一家專注于真空鍍膜設備研發(fā)、生產和銷售的高新技術企業(yè)，深耕PVD（物理氣相沉積）、ALD（原子層沉積）等技術領域，產品涵蓋磁控濺射鍍膜設備、卷繞鍍膜設備、光學鍍膜設備及半導體PVD/ALD設備等，廣泛應用于新能源電池、半導體、光學、汽車、消費電子等行業(yè)。
北方華創(chuàng)
北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司
北方華創(chuàng)成立于2001年，國內集成電路高端工藝裝備的先進企業(yè)，2010年在深交所上市（股票代碼：002371）。主營半導體裝備、真空及鋰電裝備、精密元器件業(yè)務，為半導體、新能源、新材料等領域提供解決方案。公司現(xiàn)有六大研發(fā)生產基地，擁有多種核心工藝設備解決方案，其營銷服務體系覆蓋歐、美、亞等全球主要國家和地區(qū)。
拓荊科技成立于2010年，是國內領先的半導體薄膜沉積設備制造商，專注于PECVD、ALD和SACVD設備研發(fā)、生產、銷售的高新技術企業(yè)。公司擁有自主知識產權，技術指標達到國際同類產品的先進水平，并擁有覆蓋全球的供應商網絡，致力于為?集成電路晶圓制造、先進存儲和先進封裝、HBM、MEMS、顯示等領域提供設備及相關服務。
微導Leadmicro
江蘇微導納米科技股份有限公司
微導納米成立于2015年，是一家專注于半導體及泛半導體領域的高端微納裝備制造商，以原子層沉積（ALD）技術為核心，并在技術上取得了多項突破，產品涵蓋CVD、PECVD等多種薄膜沉積設備，被廣泛應用于光伏、集成電路、LED、MEMS及柔性電子等領域。
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