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入榜《2026年CNPP半導(dǎo)體設(shè)備十大品牌榜中榜名錄》的有：ASML阿斯麥、AMAT應(yīng)用材料、Lam Research泛林集團(tuán)、Tokyo Electron、KLA科磊、ADVANTEST愛德萬測試、ASMI、SMEE、北方華創(chuàng)、中微AMEC。最新半導(dǎo)體設(shè)備十大品牌排行榜由CN10排排榜技術(shù)研究部門和CNPP品牌數(shù)據(jù)研究部門共同發(fā)布，是通過專業(yè)獨(dú)立調(diào)研測評、AI人工智能、大數(shù)據(jù)、云計(jì)算、資料統(tǒng)計(jì)分析后客觀呈現(xiàn)的真實(shí)結(jié)果，不是認(rèn)定認(rèn)證，不是競價(jià)排名，不是表彰評選，不是評價(jià)評比，排序不分先后，僅供參考。
2026
半導(dǎo)體設(shè)備10大品牌

  • ASML阿斯麥

    阿斯麥(上海)光刻設(shè)備科技有限公司
    • 發(fā)源地：荷蘭
    • 成立時間：1984
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    ASML阿斯麥創(chuàng)建于1984年荷蘭，全球知名的半導(dǎo)體光刻機(jī)設(shè)備及服務(wù)提供商，專業(yè)從事高端光刻機(jī)的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售，主要產(chǎn)品包括EUV光刻機(jī)、DUV光刻機(jī)等，尤其在極紫外光刻（EUV）技術(shù)上具有壟斷地位...更多>>
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  • AMAT應(yīng)用材料

    應(yīng)用材料(中國)有限公司
    • 發(fā)源地：美國
    • 成立時間：1967
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    AMAT應(yīng)用材料成立于1967年美國，是全球半導(dǎo)體和顯示設(shè)備制造領(lǐng)域的領(lǐng)先企業(yè)，以薄膜沉積技術(shù)起家，產(chǎn)品線涵蓋原子層沉積（ALD）、物理/化學(xué)氣相沉積（PVD/CVD）、刻蝕、離子注入、快速熱處理及檢...更多>>
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  • Lam Research泛林集團(tuán)

    泛林半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)(上海)有限公司
    • 發(fā)源地：美國
    • 成立時間：1980
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    Lam Research泛林集團(tuán)成立于1980年美國，全球半導(dǎo)體設(shè)備制造領(lǐng)域的佼佼者，其核心產(chǎn)品包括刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備和清洗設(shè)備，在納米級工藝中融合化學(xué)、等離子及流體技術(shù)，為邏輯芯片和存儲器件提供...更多>>
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  • 4

    Tokyo Electron

    東電電子(上海)有限公司
    • 發(fā)源地：日本
    • 成立時間：1963
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    TEL東京電子成立于1963年，是日本半導(dǎo)體和顯示器制造設(shè)備行業(yè)佼佼者，技術(shù)研發(fā)實(shí)力雄厚，擁有多項(xiàng)專利技術(shù)，產(chǎn)品涵蓋涂布/顯影設(shè)備、干法刻蝕、CVD、清洗及測試設(shè)備等，以高精度和穩(wěn)定性著稱。目前，TE...更多>>
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  • 5

    KLA科磊

    科磊半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)(上海)有限公司
    • 發(fā)源地：美國
    • 成立時間：1997
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    KLA科磊是全球半導(dǎo)體行業(yè)知名的工藝控制與良率管理解決方案提供商，總部位于美國。公司專注于為芯片制造商提供前沿的檢測、量測和數(shù)據(jù)分析等專業(yè)設(shè)備，覆蓋晶圓制造、封裝測試等全流程。憑借多年技術(shù)創(chuàng)新經(jīng)驗(yàn)，K...更多>>
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  • 6

    ADVANTEST愛德萬測試

    愛德萬測試(中國)管理有限公司
    • 發(fā)源地：日本
    • 成立時間：1954
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    愛德萬測試是全球規(guī)模較大的半導(dǎo)體測試設(shè)備供應(yīng)商，自1954年成立以來始終專注于SoC、存儲器等集成電路測試系統(tǒng)等領(lǐng)域的創(chuàng)新和發(fā)展，為芯片研發(fā)與量產(chǎn)提供關(guān)鍵支撐。通過持續(xù)創(chuàng)新與行業(yè)深度整合，愛德萬測試已...更多>>
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  • 7

    ASMI

    先晶半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司
    • 發(fā)源地：荷蘭
    • 成立時間：1968
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    ASM International是全球知名的半導(dǎo)體前道設(shè)備供應(yīng)商，總部位于荷蘭。公司專注于晶圓加工領(lǐng)域的沉積技術(shù)，其產(chǎn)品包括原子層沉積（ALD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）等多種設(shè)備，為芯片制造提供關(guān)鍵...更多>>
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  • 8

    SMEE

    上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司
    • 發(fā)源地：上海市
    • 成立時間：2002
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    SMEE是國內(nèi)知名的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商，致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)，產(chǎn)品線涵蓋光刻設(shè)備、集成電路制程設(shè)備、平板顯示制程設(shè)備、光學(xué)量/檢測設(shè)備等，產(chǎn)...更多>>
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  • 9

    北方華創(chuàng)

    北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司
    • 發(fā)源地：北京市
    • 成立時間：2001
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    北方華創(chuàng)成立于2001年，國內(nèi)集成電路高端工藝裝備的先進(jìn)企業(yè)，2010年在深交所上市（股票代碼：002371）。主營半導(dǎo)體裝備、真空及鋰電裝備、精密元器件業(yè)務(wù)，為半導(dǎo)體、新能源、新材料等領(lǐng)域提供解決方...更多>>
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  • 10

    中微AMEC

    中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司
    • 發(fā)源地：上海市
    • 成立時間：2004
    • 點(diǎn)亮榮譽(yù)勛章：0個
    中微半導(dǎo)體是一家專注于半導(dǎo)體裝備研發(fā)與制造的高科技企業(yè)（證券代碼：688012），致力于為全球集成電路行業(yè)提供專業(yè)的刻蝕設(shè)備和薄膜沉積技術(shù)。公司產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于邏輯芯片、存儲芯片及封裝等領(lǐng)域，憑借雄厚的...更多>>
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本榜單文章由 十大品牌網(wǎng)榜單研究員226號 上傳提供 2025-12-12
知識點(diǎn)

1、晶圓制備設(shè)備

晶圓制備設(shè)備主要用于將硅片等材料切割成超薄、超光滑的晶圓形狀。常見的晶圓制備設(shè)備包括切割機(jī)、研磨機(jī)、拋光機(jī)等。這些設(shè)備能夠?qū)⒐杵懈畛杀《刃∮?毫米、表面粗糙度小于1納米的超光滑晶圓。

2、光刻設(shè)備

光刻設(shè)備主要用于將芯片上的電路原型轉(zhuǎn)移到晶圓上，形成電路圖案。光刻設(shè)備采用光學(xué)鏡頭將光源發(fā)射的紫外線或者可見光聚焦在硅片表面形成曝光圖案。常見的光刻設(shè)備有投影式光刻機(jī)、接觸式光刻機(jī)等。

3、薄膜制備設(shè)備

薄膜制備設(shè)備主要用于在晶圓表面制備薄膜材料，包括化學(xué)氣相沉積設(shè)備、物理氣相沉積設(shè)備、濺射設(shè)備等。這些設(shè)備能夠在硅片表面制備多種材料，如氧化鋁、氮化硅、金屬等，這些材料作為電路中的絕緣層、電容、金屬導(dǎo)線等。

4、清洗設(shè)備

清洗設(shè)備主要用于將晶圓表面的雜質(zhì)、污染物清除，以確保晶圓表面的干凈度、光滑度。常見的清洗設(shè)備有化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備、濕式清洗設(shè)備等。

5、封裝測試設(shè)備

封裝測試設(shè)備主要用于在半導(dǎo)體芯片制造完成后，對芯片進(jìn)行外圍封裝和成品測試。常見的封裝測試設(shè)備有貼片機(jī)、焊線機(jī)、芯片測試機(jī)等。

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